更新時(shí)間：2020-08-12
產(chǎn)品品牌：Semiconsoft
產(chǎn)品型號(hào)：MProbe Vis
MProbe Vis薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。
測量范圍: 15 nm -50um
波長范圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實(shí)時(shí)在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)
界面友好: 一鍵式測量和分析。
MProbe Vis薄膜測厚儀實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動(dòng)態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。
案例1，300nm二氧化硅薄膜的測量：
硅晶圓反射率，測量時(shí)間10ms：
案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數(shù)：厚度和表面粗糙度
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