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布魯克 Delta-X 多功能X射線衍射儀/反射儀 XRD

更新時(shí)間:2023-09-12

產(chǎn)品品牌:布魯克Bruker

產(chǎn)品型號(hào):JV - DX / Delta-X

產(chǎn)品描述:提供科研開發(fā)工作所需的各種X射線測(cè)試解決方案

 

Delta-X  多功能X射線衍射儀/反射儀

能滿足科學(xué)研究所和技術(shù)開發(fā)中心不同材料體系的全方位測(cè)試需求。

 

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Jordan Valley公司設(shè)計(jì)的這款Delta-X多功能X射線衍射設(shè)備,可靈活應(yīng)用于材料科學(xué)研究、工藝開發(fā)、與生產(chǎn)質(zhì)量控制等環(huán)境。Delta-X衍射儀可以在常規(guī)衍射模式、高分辨率衍射模式、X射線反射模式之間靈活切換,衍射儀的光源臺(tái)和探測(cè)臺(tái)的光學(xué)元件可以全自動(dòng)化調(diào)控,并采用了水平式樣品臺(tái)。

光學(xué)配置的切換完全在菜單式程序控制下由計(jì)算機(jī)完成,無需手動(dòng)操作。自動(dòng)化切換和準(zhǔn)直不需要專門人員和操作設(shè)備,并確保每次切換都能達(dá)到合適的光學(xué)準(zhǔn)直狀態(tài) 。

常規(guī)的樣品測(cè)量可以通過Delta-X衍射儀實(shí)現(xiàn)部分、乃至完全的自動(dòng)化運(yùn)行。自動(dòng)化測(cè)量程序可以依客戶需求進(jìn)行專門定制。也可采用完全的手動(dòng)模式來操作衍射儀,以便發(fā)展新的測(cè)量方法,研究新材料體系。

數(shù)據(jù)分析或擬合可以作為測(cè)量程序的一部分,能夠?qū)崿F(xiàn)完全自動(dòng)化,也可根據(jù)需求來單獨(dú)進(jìn)行數(shù)據(jù)分析。 如以半導(dǎo)體生產(chǎn)線為例,根據(jù)生產(chǎn)線的需求,可以將RADS和REFS擬合軟件以自動(dòng)化模式運(yùn)行,能夠允許設(shè)備在沒有用戶干擾的情況下自動(dòng)完成常規(guī)性的數(shù)據(jù)分析,并直接完成數(shù)據(jù)擬合和結(jié)果輸出。RADS和REFS也可以單獨(dú)安裝,以便進(jìn)行更詳細(xì)的數(shù)據(jù)分析。

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

·  自動(dòng)化進(jìn)行樣品準(zhǔn)直、測(cè)試、和數(shù)據(jù)分析

·  客戶可以自行設(shè)定測(cè)量的自動(dòng)化程度

·  300 mm的歐拉環(huán)支架 (Eulerian Cradle) 設(shè)計(jì),高精度的樣品定位和掃描

·  300 mm的晶片水平式放置,且可以完整映射

·  100° 的Chi 軸傾轉(zhuǎn)范圍、無限制范圍的 Ph i 軸旋轉(zhuǎn)空間, 可實(shí)現(xiàn)極圖和殘余應(yīng)力測(cè)試

·  智能化的光學(xué)配置切換和準(zhǔn)直。依測(cè)量需要,自動(dòng)選擇光學(xué)配置并實(shí)施光學(xué)準(zhǔn)直

·  強(qiáng)大的工業(yè)級(jí)設(shè)備控制軟件和數(shù)據(jù)分析軟件

·  高分辨率測(cè)角儀,以保證精密且準(zhǔn)確的測(cè)量

·  高強(qiáng)度的光源臺(tái)設(shè)計(jì)和光學(xué)元件組合,實(shí)現(xiàn)快速測(cè)量

·  多方面廣泛的測(cè)試技術(shù)和測(cè)量參數(shù)

·  由擁有超過30年的高分辨率X射線衍射經(jīng)驗(yàn)的專家設(shè)計(jì)、制造,具有全球客戶經(jīng)驗(yàn)。

 

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

1、 自動(dòng)化控制的光學(xué)系統(tǒng)

Delta - X衍射儀的入射束包括多種標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)配置模式,使光學(xué)配置具有充分的靈活性,且易于操作??梢砸罁?jù)測(cè)量樣品的材料類型,選擇參考晶體。

2、樣品臺(tái)

Delta - X衍射儀的歐拉(Eulerian)環(huán)支架設(shè)計(jì)允許放置單個(gè)或多個(gè)晶片或樣品,并提供多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)軸的大范圍、高再現(xiàn)性的精確移動(dòng)控制。

      ·  可放置直徑 300mm晶片或多個(gè)小尺寸晶片、樣品

      ·  “邊緣至邊緣“全晶片測(cè)量(無邊緣測(cè)量失真現(xiàn)象)

      ·  可選配特殊環(huán)境樣品臺(tái),如高溫、真空等。

      

3、探測(cè)臺(tái)

      ·  閃爍式高性能點(diǎn)探測(cè)器,顯著提高響應(yīng)特性

      ·  性能卓越的線探測(cè)器(選配件)

4、自動(dòng)化機(jī)械手臂(Robot ) 選配件

      可選配全自動(dòng)化機(jī)械手臂,實(shí)現(xiàn)直徑≤300mm晶片的全自動(dòng)化裝卸和測(cè)量。

5、系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集

Delta - X衍射儀可以在不同模式下工作,包括菜單式全自動(dòng)化測(cè)量、各個(gè)軸的手動(dòng)準(zhǔn)直和掃描等。

      ·  利用靈活、簡(jiǎn)便的向?qū)?chuàng)建測(cè)量菜單

      ·  自動(dòng)產(chǎn)生分析報(bào)告,提供實(shí)時(shí)信息和警示

6、專業(yè)用戶功能

專業(yè)用戶可以全面使用Delta - X衍射儀的更多專業(yè)功能。控制軟件允許用戶使用從完全自動(dòng)操作到完全手動(dòng)準(zhǔn)直和測(cè)量等的所有操作模式。

      ·  手動(dòng)/自動(dòng)化準(zhǔn)直程序設(shè)置

      ·  可實(shí)現(xiàn)任何方向的專業(yè)掃描模式

      ·  功能強(qiáng)大的程序腳本

 

應(yīng)用示例

·  高分辨率X射線衍射和弛豫度(Relaxation)

    材料:?jiǎn)尉бr底材料(如Si,GaAs,InP,GaN)和外延層材料,包括多層外延膜結(jié)構(gòu)

    參數(shù):外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應(yīng)變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯底斜切角、外延傾角。

·  三軸X射線衍射和倒易空間Map

    材料:?jiǎn)尉бr底材料(如Si,GaAs,InP,GaN)和外延層材料,包括多層外延膜結(jié)構(gòu)

    參數(shù):外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應(yīng)變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯底斜切角、外延傾角。

·  高分辨X射線衍射(HRXRD) 數(shù)據(jù)示例 

    -  GaN基多量子阱結(jié)構(gòu)

    -  硅襯底上生長(zhǎng)III - V族材料

·  X射線反射(XRR )

    材料類型:薄膜

    參數(shù):薄膜厚度、密度、粗糙度

    掃描方式:Omega - 2Theta掃描,Omega掃描,2Theta掃描

 

·  X射線衍射(XRD) 

    材料:測(cè)量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對(duì)于超薄層材料、納米級(jí)厚度的薄膜材料,可以使用掠入射衍射。

    參數(shù):相結(jié)構(gòu)、織構(gòu)、晶粒尺寸、顆粒尺寸、晶胞分析、結(jié)晶度分析、殘余應(yīng)力測(cè)定。

 

·  多晶薄膜的X射線衍射(XRD)

    材料:測(cè)量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對(duì)于超薄層材料、納米級(jí)厚度的薄膜材料,可以使用掠入射衍射。

    參數(shù):相結(jié)構(gòu)、晶格常數(shù)、晶粒尺寸

 

·  多晶薄膜的掠入射X射線衍射(GI - XRD)

    材料:測(cè)量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對(duì)于超薄層材料、納米級(jí)厚度的薄膜材料,可以使用掠入射衍射。

    參數(shù):相結(jié)構(gòu)、織構(gòu)、結(jié)晶度

    掃描模式: 2Theta掃描(GI - XRD)

 

·  多晶薄膜的極圖:織構(gòu)測(cè)定

    材料:測(cè)量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。

    參數(shù):織構(gòu)

    掃描方式: Chi軸和Phi軸的聯(lián)合掃描

 

·  薄膜的殘余應(yīng)力測(cè)定

    材料:測(cè)量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。

    參數(shù):殘余應(yīng)力

    掃描方式: 2Theta軸和Chi軸聯(lián)合掃描

 

·  X射線衍射應(yīng)用示例

    -  超薄High - K材料

    -  薄膜的殘余應(yīng)力測(cè)定

 

分析軟件

Jordan Valley分析軟件包已經(jīng)擁有超過30年的使用經(jīng)驗(yàn),并廣泛應(yīng)用于薄膜材料結(jié)構(gòu)特征的X射線表征。以原英國(guó)Bede Scientific公司的分析軟件包為基礎(chǔ),Jordan Valley分析軟件在研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域都具有廣泛的適用性和優(yōu)異性,并囊括了高分辨率X射線衍射(HRXRD ) 和X射線反射(XRR ) 自動(dòng)化擬合軟件、通用分析軟件、映射圖繪制和分析軟件等。

JV RADS:在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域是飽受好評(píng)與信任的軟件,廣泛用于單晶襯底上生長(zhǎng)各種外延薄膜的HRXRD 數(shù)據(jù)分析。

MDI JADE:擁有強(qiáng)大的XRD數(shù)據(jù)分析功能,包括衍射圖譜的閱讀、處理、分析,能夠準(zhǔn)確進(jìn)行相鑒定分析。

JV REFS:用于分析X射線反射數(shù)據(jù)的軟件,軟件操作簡(jiǎn)便、功能強(qiáng)大,廣泛應(yīng)用在研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域。

JV Contour:可繪制和展示2D或3D映射圖

JV PeakSplit:提供了直接分析HRXRD和XRD數(shù)據(jù)的多種功能,對(duì)HRXRD或XRD測(cè)量數(shù)據(jù)做圖形化展示,并可擬合峰形特征。

更多數(shù)據(jù)實(shí)例或詳細(xì)參數(shù),歡迎與我司聯(lián)系索取。

 

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